발명의 명칭 :

플라즈마 처리 장치 및 플라즈마 처리 방법

출원인도쿄엘렉트론가부시키가이샤
출원번호1020190112114출원일2019.09.10
후속절차: 마감일발명자우치다 요헤이|사토 테츠지|야하타 쇼지로|타카세 타이라
이전절차 : 일자이전절차 경과일
최근절차 : 일자
현재상태