발명의 명칭 :

도전막과 그의 제조 방법, 도전체, 레지스트 패턴의 형성 방법 및 적층체

IPC 분류:

H01B 5/14(2006.01)|H01B 1/12(2006.01)|H01B 13/00(2006.01)|C08L 73/02(2006.01)|G03F 7/20(2006.01)|G03F 7/11(2006.01)|G03F 7/038(2006.01)

출원번호:

1020207025206

출원일자:

2019.03.14

출원인:

미쯔비시 케미컬 주식회사(일본 도쿄도 치요다쿠 마루노우치 *쵸메 *방 *고)

등록번호:

등록일자:

1020200131227

공개번호:

1020200131227

공개일자:

2020.11.23

발명자:

마키가와, 사키(일본 ** 도쿄도 치요다쿠 …)|야마자키, 아키라(일본 ** 도쿄도 치요다쿠 …)|야마다, 나오코(일본 ** 도쿄도 치요다쿠 …)|이리에, 요시코(일본 ** 도쿄도 치요다쿠 …)|사이키, 신지(일본 ** 도쿄도 치요다쿠 …)|우자와, 마사시(일본 ** 도쿄도 치요다쿠 …)

대리인:

한상욱(서울특별시 종로구 사직로*길 **, 세양빌딩 (내자동)(김.장 법률사무소))|이제형(서울 중구 정동길 **-** (정동, 정동빌딩) **층(김.장법률사무소))|박보현(서울 중구 정동길 **-** (정동, 정동빌딩) **층(김.장법률사무소))